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硅通孔三维封装技术
于大全主编更新时间:2021-10-29 12:17:48
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硅通孔(TSV)技术是当前先进性最高的封装互连技术之一,基于TSV技术的三维(3D)封装能够实现芯片之间的高密度封装,能有效满足高功能芯片超薄、超小、多功能、高性能、低功耗及低成本的封装需求。本书针对TSV技术本身,介绍了TSV结构、性能与集成流程、TSV单元工艺、圆片级键合技术与应用、圆片减薄与拿持技术、再布线与微凸点技术;基于TSV的封装技术,介绍了2.5DTSV中介层封装技术、3DWLCSP技术与应用、3D集成电路集成工艺与应用、3D集成电路的散热与可靠性。
上架时间:2021-09-01 00:00:00
出版社:电子工业出版社
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硅通孔三维封装技术最新章节
查看全部- 参考文献
- 10.9 本章小结
- 10.8 3D封装中芯片封装交互作用
- 10.7 3D集成电路中的热力学可靠性
- 10.6 3D集成电路中的电迁移
- 10.5 TSV的热机械可靠性
- 10.4 TSV噪声耦合
- 10.3 TSV电学可靠性
- 10.2 3D集成电路散热影响因素与改进
- 10.1 3D集成电路中的热管理
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